弊社のChouhan Vijayの発表が第16回 日本加速器学会 年会賞(ポスター部門）を受賞しました。
発表内容は“2フロー方式を用いた1.3GHz9セルニオブ空洞縦型電解研磨における研磨量均一性改善の研究”です。2フローという新たな方法を用いることにより、9セル空洞縦型電解研磨後の研磨量均一性、表面状態が大幅に改善しました。